本书对透射电子显微镜的构造、实验技术的原理和应用进行了详细介绍。第二版已对第一版内容进行了修订和更新。解释了为什么需要用到这一特殊的技术以及如何将这一特定概念运用到实践中。全书分为上下两册，共4篇，总计40章。第一篇主要介绍一些与透射电子显微镜相关的基本概念，包括电子衍射的基础知识、仪器的构造与功能，以及透射电子显微镜样品的制备等。第二篇主要介绍电子衍射的基本原理、不同的电子衍射实验技术，以及对电子衍射的理论描述。第三篇主要介绍成像的基本原理和各种成像类型、不同的成像技术，以及对实验图像的处理、分析和理论模拟。第四篇主要介绍X射线能谱和电子能量损失谱的基本原理和应用，以及与之相关的各种实验技术。全书有近700张图表，在英文版中全为彩图，而在中译本中大部分为黑白图，但并不影响所表达的意思。中译本将全书分成上下两册，即将英文版的第一篇和第二篇作为上册，将第三篇和第四篇作为下册。 本书可作为高等院校高年级本科生和研究生的教材，也可作为从事电子显微学分析等相关领域研究人员的参考用书。

前辅文
第三篇 成像原理
  第22章 振幅衬度
   章节预览
   22.1 什么是衬度?
   22.2 振幅衬度
   22.3 质-厚衬度
   22.4 Z 衬度
   22.5 TEM 衍射衬度
   22.6 STEM 衍射衬度
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
  第23章 相位衬度成像
   章节预览
   23.1 介绍
   23.2 晶格条纹像的起源
   23.3 晶格条纹像的实践观察
   23.4 正带轴晶格条纹像
   23.5 莫尔条纹
   23.6 实验观察莫尔条纹
   23.7 菲涅耳衬度
   23.8 孔洞或气泡的菲涅耳衬度
   23.9 晶格缺陷的菲涅耳衬度
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
  第24章 厚度效应和弯曲效应
   章节预览
   24.1 基本原理
   24.2 厚度条纹
   24.3 厚度条纹和衍射花样(DP)
   24.4 弯曲轮廓(讨厌的瑕疵､有用的工具､珍贵的观点)
   24.5 ZAP 和实空间晶体学
   24.6 凸起､凹陷和鞍状弯曲
   24.7 吸收效应
   24.8 厚度条纹的计算机模拟
   24.9 厚度条纹/弯曲轮廓相互作用
   24.10 其他弯曲效应
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
  第25章 面缺陷
   章节预览
   25.1 平移和旋转
   25.2 为什么平移会产生衬度?
   25.3 散射矩阵
   25.4 散射矩阵的应用
   25.5 fcc 材料中的堆垛层错
   25.6 其他平移:π 和 δ 条纹
   25.7 相边界
   25.8 旋转边界
   25.9 衍射花样和色散曲面
   25.10 布洛赫波与 BF / DF 图像对
   25.11 计算机建模
   25.12 广义截面
   25.13 定量成像
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
  第26章 应变场成像
   章节预览
   26.1 应变场成像的意义
   26.2 HowieWhelan 方程
   26.3 单根位错线的衬度
   26.4 位移场和 Ewald 球
   26.5 位错节点和位错网
   26.6 位错环和位错偶极子
   26.7 位错对､位错阵列和位错结
   26.8 表面效应
   26.9 位错和界面
   26.10 体缺陷和晶粒
   26.11 图像模拟
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
  第27章 弱束暗场显微术
   章节预览
   27.1 WBDF 像中的强度
   27.2 利用菊池花样设置 sg
   27.3 如何操作 WBDF
   27.4 应力场成像
   27.5 弱束像中的厚度条纹
   27.6 预测位错峰位置
   27.7 相量图
   27.8 不全位错的弱束像
   27.9 其他思考
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
  第28章 高分辨率透射电子显微学
   章节预览
   28.1 光学系统的作用
   28.2 无线电类比
   28.3 样品
   28.4 WPOA 在 TEM 中的应用
   28.5 传递函数
   28.6 关于 χ(u)､sin χ(u)和 cos χ(u)的更多讨论
   28.7 Scherzer 离焦
   28.8 包络阻尼函数
   28.9 利用传输频带成像
   28.10 实验需要考虑的事项
   28.11 HRTEM 的未来
   28.12 TEM 作为一个线性系统
   28.13 FEG-TEM 及其信息极限
   28.14 FEG 的一些难点
   28.15 亚晶格的选择性成像
   28.16 界面和表面
   28.17 无公度结构
   28.18 准晶体
   28.19 单原子
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
  第29章 其他成像技术
   章节预览
   29.1 立体显微术和断层摄影术
   29.2 2 12维显微术 240
   29.3 磁性样品
   29.4 化学敏感像
   29.5 漫散射电子成像
   29.6 表面成像
   29.7 高阶明场成像
   29.8 二次电子成像
   29.9 背散射电子成像
   29.10 电荷收集显微术和阴极发光
   29.11 电子全息
   29.12 原位 TEM:动态实验
   29.13 涨落电子显微术
   29.14 STEM 中的其他可能
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
  第30章 图像模拟
   章节预览
   30.1 模拟图像
   30.2 多层法
   30.3 倒易空间法
   30.4 快速傅里叶变换法
   30.5 实空间法
   30.6 布洛赫波和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)模拟
   30.7 Ewald 球弯曲
   30.8 选择薄片厚度
   30.9 电子束会聚
   30.10 建立结构模型
   30.11 表面凹槽和菲涅耳衬度模拟
   30.12 缺陷图像计算
   30.13 模拟准晶
   30.14 晶体中的键
   30.15 Z 衬度模拟
   30.16 HRTEM 相位衬度的模拟软件
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
  第31章 图像处理和定量分析
   章节预览
   31.1 什么是图像处理
   31.2 图像处理和定量
   31.3 注意事项
   31.4 图像输入
   31.5 处理技术
   31.6 应用
   31.7 自动合轴
   31.8 图像定量分析方法
   31.9 HRTEM 中的花样识别
   31.10 图像参数的定量计算
   31.11 定量化学晶格成像
   31.12 测量拟合度的方法
   31.13 模拟和实验 HRTEM 图像的定量比较
   31.14 定量分析的傅里叶技术
   31.15 实空间和倒易空间的选择
   31.16 软件
   31.17 光具座———小历史
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
第四篇 能谱分析
  第32章 X 射线能谱仪
   章节预览
   32.1 X 射线分析:为何比较麻烦?
   32.2 基本的操作模式
   32.3 能量色散谱仪
   32.4 半导体探测器
   32.5 高能量分辨率探测器
   32.6 波长色散能谱
   32.7 X 射线转换为能谱
   32.8 能量分辨率
   32.9 XEDS 的一些基本知识
   32.10 XEDSAEM 接口
   32.11 保护探测器不受强辐射的损害
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
  第33章 X 射线谱及成像
   章节预览
   33.1 理想谱
   33.2 Si(Li)XEDS 系统常见假峰
   33.3 真实的能谱
   33.4 测量 XEDSAEM 接口质量
   33.5 采集 X 射线谱
   33.6 采集 X 射线成像
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
  第34章 X 射线图谱的定性分析
   章节预览
   34.1 实验变量
   34.2 基本的能谱获取要求:计数､计数､更多的咖啡
   34.3 峰识别
   34.4 峰解卷
   34.5 峰的可见度
   34.6 常见错误
   34.7 定性 X 射线成像:原理和实践
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
  第35章 X 射线定量分析
   章节预览
   35.1 历史回顾
   35.2 CliffLorimer 比率方法
   35.3 定量分析的实际步骤
   35.4 k 因子的确定
   35.5 ζ 因子方法
   35.6 吸收修正
   35.7 ζ 因子吸收修正
   35.8 荧光修正
   35.9 ALCHEMI
   35.10 定量 X 射线元素映射
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
  第36章 空间分辨率和检测下限
   章节预览
   36.1 空间分辨率的重要性
   36.2 空间分辨率的定义和测量
   36.3 厚度的测量
   36.4 检测下限
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
  第37章 电子能量损失谱仪和过滤器
   章节预览
   37.1 为什么要使用电子能量损失谱?
   37.2 EELS 设备
   37.3 磁棱镜:谱仪和透镜
   37.4 收集能谱
   37.5 使用 PEELS 的问题
   37.6 成像过滤器
   37.7 单色器
   37.8 使用谱仪和过滤器
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
  第38章 低能量及零能量损失的能谱和图像
   章节预览
   38.1 一些基本概念
   38.2 零损失峰(ZLP)
   38.3 低能损失谱
   38.4 模拟低能损失谱
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
  第39章 高能损失谱和图像
   章节预览
   39.1 高能损失谱
   39.2 获取高能损失谱
   39.3 定性分析
   39.4 定量分析
   39.5 根据能量损失谱确定样品厚度
   39.6 解卷积
   39.7 入射电子束会聚的修正
   39.8 样品取向的影响
   39.9 EFTEM 电离吸收边成像
   39.10 空间分辨率:原子柱 EELS
   39.11 探测能量的极限
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
  第40章 精细结构和细节信息
   章节预览
   40.1 为什么会有精细结构?
   40.2 ELNES 物理
   40.3 ELNES 的应用
   40.4 ELNES 指纹标识
   40.5 ELNES 计算
   40.6 能量损失边的化学位移
   40.7 扩展能量损失精细结构(EXELFS)
   40.8 角分辨的电子能量损失谱
   40.9 EELS 层析技术
   章节总结
   参考文献
   自测题
   章节具体问题
  索引